1. 機(jī)械拋光
其長(zhǎng)處是加工后零件的整平性好,光明度高。其缺陷是勞動(dòng)強(qiáng)度大,污染嚴(yán)峻,而且龐雜零件無法加工,而且其光澤不能一致,光澤維持時(shí)間不長(zhǎng)，發(fā)悶、生銹。對(duì)比適宜加工簡(jiǎn)略件,中、小產(chǎn)品。
機(jī)械拋光是靠切削、材料外表塑性變形去掉被拋光后的凸部而得到平滑面的拋光方式,一般運(yùn)用油石條、羊毛輪、砂紙等，以手工操作為主,特別零件如回轉(zhuǎn) 體外表,可運(yùn)用轉(zhuǎn)臺(tái)等輔佐工具,外表質(zhì)量要求高的可采取超精研拋的方式。超精研拋是采取特制的磨具,在含有磨料的研拋液中,緊壓在工件被加工外表上,作高 速旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)。利用該技術(shù)可以到達(dá) Ra0.008μm 的外表毛糙度,是各種拋光方式中高的。光學(xué)鏡片模具常采用這種方式。
2. 化學(xué)拋光
其長(zhǎng)處是加工設(shè)備投資少,龐雜件能拋,速度快,效率高,防腐性好。其缺陷是光明度差,有氣體溢出,須要通風(fēng)設(shè)備,加溫艱難。適宜加工小批量龐雜件及小零件光明度要求不高的產(chǎn)品。
化學(xué)拋光是讓材料在化學(xué)介質(zhì)中外表宏觀凸出的部分較凹部分優(yōu)先溶解,從而得到平滑面。這種方式的重要長(zhǎng)處是不需龐雜設(shè)備,可以拋光外形龐雜的工件,可以同時(shí)拋光很多工件,效率高�；瘜W(xué)拋光的核心問題是拋光液的配制�；瘜W(xué)拋光得到的外表毛糙度一般為數(shù)10μm。
3. 電解拋光
其長(zhǎng)處是鏡面光澤維持長(zhǎng),工藝穩(wěn)固,污染少,本錢低,防腐性好。其缺陷是防污染性高,加工設(shè)備一次性投資大,龐雜件要工裝、輔佐電極,大批生產(chǎn)還須要降溫設(shè)備。適宜批量生產(chǎn),重要應(yīng)用于產(chǎn)品,出口產(chǎn)品,有公差產(chǎn)品,其加工工藝穩(wěn)固,操作上也相對(duì)簡(jiǎn)略。
電解拋光根底原理與化學(xué)拋光雷同,即靠選擇性的溶解材料外表渺小凸出部分,使外表光滑。與化學(xué)拋光相比,可以清除陰極反映的影響,效果較好。
電化學(xué)拋光過程分為兩步：
(1)宏觀整平 溶解產(chǎn)物向電解液中分散,材料外表幾何毛糙下降,Ra＞1μm。
(2)微光平坦陽極極化，外表光明度提高,Ra＜1μm。
4. 超聲波拋光
將工件放入磨料懸浮液中并一起置于超聲波場(chǎng)中,依賴超聲波的振蕩作用.使磨料在工件外表磨削拋光。超聲波加工宏觀力小,不會(huì)引起工件變形,但工裝制作和安裝較艱難。
超聲波加工可以與化學(xué)或電化學(xué)方式結(jié)合。在溶液腐蝕、電解的根底上,再施加超聲波振動(dòng)攪拌溶液,使工件外表溶解產(chǎn)物脫離,外表左近的腐蝕或電解質(zhì)平均；超聲波在液體中的空化作用還可以克制腐蝕過程,利于外表光明化。
5.流體拋光
流體拋光是依賴高速流動(dòng)的液體及其攜帶的磨粒沖刷工件外表到達(dá)拋光的目標(biāo)。常用方式有：磨料放射加工、液體放射加工、流體動(dòng)力研磨等。流體動(dòng)力研磨是由液壓驅(qū)動(dòng),使攜帶磨粒的液體介質(zhì)高速往復(fù)流過工件外表。
介質(zhì)重要采取在較低壓力上流過性好的特別化合物(聚合物狀物質(zhì))并摻上磨料制成,磨料可采取碳化硅粉末。
6.磁研磨拋光
磁研磨拋光是利用磁性磨料在磁場(chǎng)作用下形成磨料刷,對(duì)工件磨削加工,這種方式加工效率高,質(zhì)量好,加工條件容易控制,工作條件好。